Влияние положения подложки в процессе депонирования алмазов из паровой фазы в методе однонаправленной сводчатой струи плазмы

 

Миролюуб Вилотиевич

Мария Крмар

 

Здесь испитывано влияние положения подложки на морфологию, на скорость депонирования, на поверхность депонированных алмазных фильмов и на их фазовую чистоту, причём все остальные параметры процесса (отношение CH₄/H₂ , сила в плазме, давление в камере и температура подложки) задерживаны постоянными. С увеличением растояния нанесения от анодного отверствия плазматрона происходят значительные изменения в морфологии депозита (от хрустальной до шариковой), до снижения скорости депонирования и до увеличения поверхности покрытия депозитом. Результаты дифракции Х-лучей (XRD) указывают на то, что все депозиты являются фазовым чистым алмазом. Причиной фазового чистого алмаза может явится высокая энтальпия использованной плазмы, чем сохраняется относительно высокая концентрация атомарного водорода, который из-за своей реактивности является эффективным в процессе разъедания не-алмазных фаз.

Kлючeвыe слoвa: алмаз, химико-паровое депонирование, струя плазмы..