|
Uticaj položaja substrata u procesu deponovanja dijamanta iz parne faze u metodi jednosmernog lučnog plazmenog mlaza
Miroljub Vilotijević Marija Krmar
Ispitivan je uticaj pozicije substrata na morfologiju, brzinu deponovanja, površinu deponovanih dijamantskih filmova i na njihovu faznu čištoću, pri čemu su svi ostali parametri procesa (odnos CH4/H2, snaga u plazmi, pritisak u komori i temperatura substrata) držani konstantnim. Sa povećanjem distance nanošenja od anodnog otvora plazmatrona dolazi do značajne promene u morfologiji depozita (od kristalne do loptaste), do smanjenja brzine deponovanja i povećanja površine pokrivenosti depozitom. Rezultati difrakcije X- zraka (XRD) ukazuju na to da su svi depoziti fazno čist dijamant. Razlog za fazno čist dijamant može biti u visokoj entalpiji korišćene plazme, čime se održava relativno visoka koncentracija atomskog vodonika, koji je zbog svoje reaktivnosti efikasan u procesu nagrizanja ne-dijamantskih faza. Ključne reči: dijamant, hemijsko-parna depozicija, mlaz plazme.
|